Nota: GAP – Banda proibida.
No processo de dopagem existem dois tipos de impurezas usadas:
N: na adição de fósforo ou arsênico ao silício. Tanto o arsênico quanto o fósforo possuem cinco elétrons na camada de valência. Ocorrem ligações covalentes entre quatro elétrons e um deles fica livre, ou seja, é o chamado elétron livre, que ganha movimento e gera corrente elétrica. O nome N provém da carga negatividade gerada.
P: há adição de boro ou gálio ao silício. Ambos possuem três elétrons na camada de valência. Quando são adicionados ao silício criam lacunas, que conduzem corrente e a ausência de um elétron cria uma carga positiva (P).
O díodo é o semicondutor mais simples e possibilita que uma corrente flua apenas em uma direção.
A polarização direta PN do Díodo deverá ser realizada com a conexão do polo positivo da bateria ao ânodo (P) do díodo e o polo negativo ao cátodo (N).
Na polarização direta, elétrons livres são cedidos à zona N e elétrons da camada de valência da zona P são atraídos. O díodo polarizado irá conduzir eletricidade.
A polarização inversa PN ocorre se o polo negativo da bateria for conectado à P e o polo positivo à N.
Embora na polarização inversa não devesse haver condução de corrente pelo díodo, a temperatura produzida pela lacuna gera a corrente inversa de saturação. Além dessa, há uma corrente presente na superfície do díodo. É gerada, portanto, a corrente necessária.
O transístor é formado com três camadas (o díodo, como o próprio nome diz, é formado por duas camadas) usando combinações PNP e NPN.
Curso Básico de Eletrônica Analógica em Scribd [em linha]. Acedido em 16 de outubro de 2015. Disponível na Internet: http://www.scribd.com/doc/131980285/63882656-eletronica-pdf#scribd.
Dopagem Eletrônica em InfoEscola Navegando e Aprendendo [em linha]. Acedido em 03 de novembro de 2015- disponível na Internet: http://www.infoescola.com/quimica/dopagem-eletronica/.